什么是ICP光譜儀的去溶干擾?
點擊次數(shù):0 發(fā)布時間:2016-04-21
1. 去溶干擾就是去除溶劑的干擾,主要是扣除背景.
2. 可以提高靈敏度,降低檢出限.
3. 去溶過程主要出現(xiàn)于分析液體樣品的原子吸收和ICP發(fā)射光譜,它是指將霧化后的液(濕)氣溶膠中溶劑揮發(fā)變?yōu)楦蓺馊苣z的過程。對于ICP來說,因為加熱條件比較好,只要使氣溶膠在分析通道的停留時間足夠長,即使不用去溶裝置也可使分析物完全揮發(fā),而基本上沒有什么去溶損失,所以ICP的去溶干擾并不十分明顯,更不是很重要。