公司動(dòng)態(tài)
測(cè)量的時(shí)候?yàn)槭裁匆鄢庾V背景?
點(diǎn)擊次數(shù):0 發(fā)布時(shí)間:2021-03-09
在測(cè)量的時(shí)候?yàn)槭裁匆鄢庾V背景?ICP光譜儀廠家就來(lái)為您簡(jiǎn)單分析。
標(biāo)準(zhǔn)樣品和被測(cè)樣品的背景不一致時(shí),容易引起測(cè)量誤差;背景強(qiáng)度過(guò)大時(shí),嚴(yán)重影響低含量元素的測(cè)定,同時(shí)造成儀器檢出限過(guò)高。因而,扣除背景有利于提高分析結(jié)果的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度,提升儀器靈敏度和檢出限。
多道型ICP光譜儀測(cè)量的是各通道出縫寬度內(nèi)的光強(qiáng)累加值,無(wú)法區(qū)分背景強(qiáng)度和譜線強(qiáng)度,測(cè)量精度受到背景強(qiáng)度的影響。
全譜型ICP光譜儀可以獲得每條譜線的輪廓信息,因此可結(jié)合背景校正技術(shù),正確區(qū)分背景和譜線,有效提高測(cè)量精度。